CVD

CVD (Chemical Vapor Deposition, химическое осаждение пара) — технология, используемая при производстве тонкопленочных транзисторов для TFT-дисплеев. Высокочистый кремний в вакууме возгоняется в парообразную форму и затем осаждается на подложку. На образовавшейся твердой кремниевой пленке фотолитографическим способом формируется микросхема.
Статья находится в рубриках
Яндекс.Метрика