Катодное распыление

Като́дное распыле́ние — разрушение поверхности твердого тела при бомбардировке ее ионами. Первоначально катодное распыление наблюдалось как разрушение катодов в электровакуумных и газоразрядных приборах. Катодное распыление осуществляется высокоэнергетичными ионами, которые приобретают необходимую энергию, ускоряясь в электрическом поле, и распыляют атомы материала катода. Распыление может происходить при постоянном токе или токе высокой частоты, в среде реакционного газа или без него, с напряжением смещения или без него, с дополнительным магнитным полем. Различают физическое и реактивное катодное распыление. При физическом распылении отсутствует химическая реакция; в качестве рабочих газов используют аргон или азот. Реактивное распыление основано на введении дополнительного (реактивного) газа, который, взаимодействуя с конденсируемыми атомами на подложке, способствует получению пленок с различными свойствами. Катодное распыление, с одной стороны, нежелательное явление, уменьшающее срок службы электровакуумных приборов; с другой стороны, оно имеет практическое применение для очистки поверхностей, выявления структуры вещества (ионное травление), нанесения тонких пленок, для получения направленных молекулярных пучков.